[1]顾宁,鲁武,陆祖宏.电子束纳米分辨率光刻[J].东南大学学报(自然科学版),1994,24(2):95-102.[doi:10.3969/j.issn.1001-0505.1994.02.016]
 GuNing,Luwu,Luzuhong.Electron-Beam Nanolithography[J].Journal of Southeast University (Natural Science Edition),1994,24(2):95-102.[doi:10.3969/j.issn.1001-0505.1994.02.016]
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电子束纳米分辨率光刻()
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《东南大学学报(自然科学版)》[ISSN:1001-0505/CN:32-1178/N]

卷:
24
期数:
1994年第2期
页码:
95-102
栏目:
电子科学与工程
出版日期:
1994-03-20

文章信息/Info

Title:
Electron-Beam Nanolithography
作者:
顾宁鲁武陆祖宏
东南大学生物科学与医学工程系
Author(s):
GuNing;Luwu;Luzuhong
Department of Biology and Medical Engineering,Southeast University,Nanjing 21008
关键词:
电子束光刻 二次电子/纳米结构 纳米光刻 背散射电子
分类号:
TN305.7
DOI:
10.3969/j.issn.1001-0505.1994.02.016
摘要:
本文侧重分析电子束纳米光刻中的若干限制因素,包括电子光学系统中的象差、电子束与抗蚀剂的相互作用(散射与二次电子效应)、衬底条件等,并对已用于进行纳米分辨率电子束光刻中的一些方法进行了归纳,讨论了其应用前景.
更新日期/Last Update: 2013-04-19